В настоящее время наиболее производительные процессоры (такие как, например, Intel Pentium 4 и AMD Athlon XP) изготавливаются по 130-нанометровой технологии. Специалисты компании Applied Materials считают, что уже сейчас этот показатель можно значительно улучшить. Анонсированная в понедельник установка для производства микросхем Endura Integrated Cu Barrier/Seed system позволит выйти на 65-нанометровый техпроцесс. Особенность новой системы заключается в том, что в ней слой материала напыляется атом за атомом, что позволяет достигать высокой точности при создании таких структур, как транзисторы. Это уже третье изделие компании, использующее технологию напыления атомного слоя.

Переход на 65-нанометровый процесс позволит заметно уменьшить размеры процессоров либо увеличить число их элементов. Инженеры Applied Materials полагают, что новая технология позволит увеличить число транзисторов в 20 раз, что обеспечит пятикратный прирост производительности процессоров.

Сергей САНЬКО