Существующая технология трассировки микросхем подбирается к своим физическим пределам, и поиск новых решений тут неизбежен. По мнению Ф. Писа (F. Pease) из Стэнфордского университета в Калифорнии, таким решением может стать техника, чем-то напоминающая старую-добрую технику механической печати, применяемую в книжной полиграфии и при изготовлении банкнот. К такому выводу его подтолкнули эксперименты Стивена Чу (Stephen Chou) с коллегами из Принстонского университета, которым удалось получить на кремниевой подложке отпечатки шириной всего около 10 нм ("Nature", 2002, Vol. 417, P. 835-837). Это на целый порядок превосходит достижимые с помощью техники фотолитографии 0,13 мкм (130 нм). "Гвоздем" новой технологии является использование импульсного лазера и кварцевой матрицы. Весь процесс занимает всего 250 наносекунд, а это в миллион раз быстрее моргания глаза, и позволяет разместить на чипе в 100 раз больше транзисторов, чем это достижимо ныне. Причем технология обещает сделать производимые чипы более компактными, быстрыми и дешевыми по сравнению с существующими.

Сергей САНЬКО